历史进程
先进电子材料与器件校级平台（AEMD）创建于2012年，于2014年11月6日起正式对外运行，是为全校科研工作提供服务的大型仪器设备校级共享平台，具备10nm至微米级微纳器件与图形的加工与测试能力。AEMD平台在学校各级领导的大力支持下，成为相关学科依托发展的重要支撑力，同时也为科研工作提供完善的保障。
在“双一流”建设项目及学校各级领导的支持下，位于综合实验楼的近1200平米的净化间新址建成，超 2.3 亿总值的新设备即将全面开放。二、三期支撑服务能力的提升，将有效覆盖有缘光电半导体器件、三维异质集成封装、微机电及微纳感知系统（MEMS）、微纳光学等研究领域，补充上海交通大学在半导体加工、集成电路、光电芯片、微纳感知等领域的科研支撑需求。
2014 年 11 月正式向校内外用户开放共享服务，面向国家重大战略需求，服务学校双一流建设，平台立足于微纳加工领域，致力于为原创性基础研究和前沿性技术突破提供重要支撑，成为高水平微纳加工科研服务平台。发展至今已成为国内开放程度高、运行良好的知名微纳加工平台，目前已累积服务校内用户 2550 人，支持校内各院系、研究院所 20 个；支持国内高校 53所、科研院所 23 家（含中科院研究所 13 家）、各类企业 95 家，用户分布遍布全国。
在“985”三期重点项目及学校各级领导的支持下，建设完成面积为618平米的净化实验室，并建成了一条面向硅、玻璃、有机基底的且能向下完全兼容的6英寸半导体级微纳加工实验线、一条3英寸非硅微纳加工实验线和一个光电材料与器件实验室，能实现最小8nm以上微纳米图形加工；加工测试设备总价值约9300余万元。工艺能力涵盖光刻、氧化扩散、湿法清洗与刻蚀、物理气相沉积、化学气相沉积及干法刻蚀、结构与器件特性表征等，同时具备先进的电子束光刻、聚焦离子束沉积与加工、深硅刻蚀等工艺能力。
