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微纳加工
  • 电子束直写曝光系统（EBL）预约

    型号：EBPG 5200

    状态：运行

    功能：8英寸及以下基片纳米级结构直写光刻

    西区光刻I区(021) 34206126-6018
  • 深紫外步进式光刻机预约

    型号：3030EX6

    状态：运行

    功能：180 nm半导体工艺节点光刻工艺

    东区光刻II区(Canon)(021) 34206126-6018
  • MA8/BA8双面对准接触式紫外光刻机预约

    型号：MA8/BA8

    状态：运行

    功能：800nm~微米级微纳结构与器件图形光刻

    东区光刻ⅢA区(021) 34206126-6005
  • MA/BA6双面对准接触式紫外光刻机预约

    型号：MA/BA6

    状态：运行

    功能：1. 微纳结构与器件图形光刻；
    2. 双面对准光刻。

    西区光刻I区(021) 34206126-6005
  • 双面对准接触式紫外光刻机预约

    型号：MA6/BA6

    状态：运行

    功能：1. 基片：硅，玻璃等；
    2. 微纳结构与器件图形光刻；
    3. 双面对准光刻。

    西区光刻I区(021) 34206126-6029
  • 紫外双面光刻机预约

    型号：EVG610

    状态：运行

    功能：1、6英寸;以下晶圆及碎片双面光刻图形化
    2、图形最小分辨率可至0.8um
    3、配合晶圆键合系统提供高精度键合晶圆及芯片对准。
    4、可配套EVG-510键合机实现晶圆对准、定位功能。

    东区光刻II区(Canon)(021) 34206126-6029
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