• 型号:ACT8

    状态:运行

    功能:在180 nm半导体工艺节点中全自动涂胶显影

    东区光刻Ⅱ区(Canon)(021) 34206126-6052
  • 型号:101 喷胶机

    状态:运行

    功能:半导体光刻工艺中光刻胶旋涂和喷涂。

    西区光刻I区(021) 34206126-6005
  • 型号:RCD8

    状态:运行

    功能:8寸及以下光刻胶旋涂

    东区光刻ⅢA区(021) 34206126-6005
  • 型号:SM-200

    状态:运行

    功能:主要用于光刻工艺中的旋涂过程,可均匀涂覆光刻胶或其他液态材料,适用于晶圆及基板的高精度涂覆。

    东区光刻ⅢA区(021) 34206126-6029
  • 型号:Spin-coater

    状态:运行

    功能:1. 光刻胶旋涂;
    2. 柔性基底原浆旋涂。

    东区光刻ⅢA区、西区光刻I区(021) 34206126-6005/6029
  • 型号:RCD8

    状态:运行

    功能:喷射式显影

    东区光刻ⅢA区(021) 34206126-6005
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