型号:ACT8
功能:在180 nm半导体工艺节点中全自动涂胶显影
型号:101 喷胶机
功能:半导体光刻工艺中光刻胶旋涂和喷涂。
型号:RCD8
功能:8寸及以下光刻胶旋涂
型号:SM-200
功能:主要用于光刻工艺中的旋涂过程,可均匀涂覆光刻胶或其他液态材料,适用于晶圆及基板的高精度涂覆。
型号:Spin-coater
功能:1. 光刻胶旋涂;2. 柔性基底原浆旋涂。
功能:喷射式显影