| 型号： | Spin-coater |
|---|---|
| 功能： | 1. 光刻胶旋涂； 2. 柔性基底原浆旋涂。 |
| 工程师： | 王老师、张老师 / (021) 34206126-6005/6029 |
| 设备地点： | 东区光刻ⅢA区、西区光刻I区 |
| 设备编号： | ELT3SPC01、WPHSCOT02、WPHSCOT01、EPHKCOT01 |
将光刻胶通过旋涂的方式均匀地涂布在基底上
6寸及以下光刻胶旋涂
涂胶机的工作原理是将光刻胶通过旋涂的方式均匀地涂布在基底上
半导体标准硅片或玻璃片
1"以下碎片（10mm*10mm最小）, 2", 3",4",6"标准片
使用前应检查设备状态，并注意放样品 。匀胶结束后应立即对匀胶机腔体进行全面清理，在不影响其他预约用户使用的情况下，可每次实验结束离开时进行清理，一般光刻胶均使用无尘纸蘸丙酮进行擦拭清理。
请及时清理载片台和片子背面
