| 型号： | RCD8 |
|---|---|
| 功能： | 8寸及以下光刻胶旋涂 |
| 工程师： | 王老师 / (021) 34206126-6005 |
| 设备地点： | 东区光刻ⅢA区 |
| 设备编号： | ELT3MCS81 |
将光刻胶通过旋涂的方式均匀地涂布在基底上。
8寸及以下光刻胶旋涂，支持背洗和去厚胶边功能 ,可处理粘滞度小于1cps到55000cps的光刻胶
涂胶机的工作原理是将光刻胶通过旋涂的方式均匀地涂布在基底上
支持 2”~8”标准晶圆，以及大于10mm x 10mm 的碎片
使用前应检查设备状态，并注意放样品 。匀胶结束后应立即对匀胶机腔体进行全面清理，在不影响其他预约用户使用的情况下，可每次实验结束离开时进行清理，一般光刻胶均使用无尘纸蘸丙酮进行擦拭清理。
可能是晶圆背面不是很干净或chuck表面不是很干净，用无水酒精擦拭这两处，重新放置晶圆
