将曝光后的硅片放入显影机中，使用显影液处理以去除特定区域的光阻。
8寸及以下光刻胶旋涂和喷射式显影，支持背洗和去厚胶边功能
电机精度：3000rpm ±1转
显影是将曝光后的硅片放入显影机中，使用显影液处理，以去除曝光或未曝光的光阻
支持 2”~8”标准晶圆，以及大于10mm x 10mm 的碎片
请及时清理载片台和片子背面
