尊敬的各位用户老师、同学：
为了进一步满足广大师生的科研需求，AEMD平台新上线二、三期设备：X射线荧光镀层测厚仪（设备编号：ETE3XRF01）。即日起，各位用户可通过AEMD实验室设备预约管理系统进行预约使用，特此公告。
X射线荧光镀层测厚仪（ETE3XRF01）
功能
快速、无损地测定金属镀层或薄膜的厚度及其成分。平台主要用于金属薄层沉积（如电镀，溅射，蒸镀等）与去除（如cmp，刻蚀等）工艺后金属薄层厚度。用于整片晶圆沉积工艺及去除工艺多点位测量，快速获取均匀性/map数据。用于分析样品的元素成分及占比（金属元素）。
工艺/测试能力
元素测量范围涵盖：从铝(Al，Z=13)至铀(U，Z=92)。 Au、Pd最小测量厚度≤0.01μm，其中Au最薄检出限≤2nm。
技术指标
采用W靶微聚焦X射线发射管：满足在测试细小工件的同时也有足够的能量，保证测试精度。三档可调高压（10kV, 30kV, 50kV）。 可切换基本滤片：镍10µm，铝1000µm及铝500µm。 全自动可编程XY工作台，可测量样品尺寸≥370×320×130mm，移动范围≥250×220mm。 可生成三维视图功能，可以对镀层分布进行分析。
典型使用案例：
图1 金属焊盘成分及各层厚度测试
图2 晶圆表面铜镀层厚度分布图
图3 AlScN薄膜中Al、Sc光谱分析及重量百分比测试
工艺工程师：瞿敏妮，（021）34207734-8003，minni.qu @sjtu.edu.cn
设备地点：东区薄膜Ⅲ区
设备详细介绍查看路径：AEMD官网-平台设备-测试设备
AEMD官网网址：https://aemd.sjtu.edu.cn/
AEMD实验室设备预约管理系统访问网址：https://aemd-lims.sjtu.edu.cn/
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先进电子材料与器件（AEMD）平台
2026年11月13日
