【2014-09-16】接近接触式光刻、键合、纳米压印

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2014-09-14

各位老师、同学： AEMD平台将于近期组织一场关于接近接触式光刻、键合、纳米压印技术及其应用的演讲报告会，具体通知如下。欢迎全校相关学科的老师与同学参加！ 演讲标题：【AEMD系列技术研讨会】接近接触式光刻、键合、纳米压印 演讲时间：2014年9月16日（周二）9:30-11:45 演讲地点：电信群楼3号楼208会议室 演讲人：龚里，在德国爱尔兰根-纽伦堡大学材料专业主修电子材料，旁修玻璃陶瓷材料及固体物理，获材料学硕士学位，并获电子工程学博士学位。曾先后任职于弗朗霍夫集成电路研究所和德国爱尔兰根-纽伦堡大学电子所，从事半导体工艺和测试的研究与教学工作。1994年10月开始就任德国苏斯公司中国区经理，于2001年被派往中国，目前担任苏斯贸易（上海）有限公司总经理。 演讲安排： 一、9:30-10:15 接近接触式光刻机技术介绍及其应用（约45分钟）二、10:15-11:15 晶圆键合技术及其应用 (约60分钟) 三、11:15-11:45 新型纳米压印技术的应用(约30分钟) 附件：演讲人-龚里简介

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