氧化炉(干氧/湿氧)运行
Horizontal Oxidation / Diffusion Furnace
型号: AH3
功能: 1. 高品质氧化硅的干氧氧化; 2. 超厚氧化硅的湿氧氧化。3. 1100度以下的热退火工艺
工程师: 李老师 / (021) 34206126-6015
设备地点: 西区高温炉管区
设备编号: WDFSOXD03
  • 设备基本信息
  • 设备工作原理
  • 典型使用案例
主要用途

1. 高品质氧化硅的干氧氧化(可以加工300纳米以下的干氧氧化工艺。
2. 超厚氧化硅的湿氧氧化(300纳米到3微米的湿氧氧化工艺)。
3. 1100度以下的热退火工艺。

 
工艺/测试能力
  • 高品质氧化硅的干氧氧化(可以加工300纳米以下的干氧氧化工艺
  • 超厚氧化硅的湿氧氧化(300纳米到3微米的湿氧氧化工艺)
  • 1100度以下的热退火工艺

 

技术指标
  • 可加工样品尺寸为6英寸以及以下尺寸样品
  • 温度范围为300~1100度
  • 升温速率10度/分钟
  • 通过氧气工艺实现干氧氧化 
  • 通过steamer(水蒸气发生器)实现湿氧工艺

通过氧气工艺实现干氧氧化, 通过steamer(水蒸气发生器)实现湿氧工艺, 通过heater(加热器)实现石英腔体的快速加热功能, 通过氮气惰性气体可以实现高温退火工艺。

 

可以用于硅衬底的热氧化工艺,或者实现样品的热退火等热处理工艺。

 

只有3~6寸硅片(圆片)才可以作业;禁止后道硅片进入。

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常见问题及解答
  • 01
    此设备可以用于后道样品吗?

    严禁污染,禁止后道工艺样品进入。

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