| 型号： | PDC002 |
|---|---|
| 功能： | 1. 基片表面等离子清洗 2. 基片表面改性处理（O2或N2） |
| 工程师： | 付学成 / (021) 34206126-6010 |
| 设备地点： | 西区薄膜IA区 |
| 设备编号： | WF1HPCL01 |
蒸镀或刻蚀前清理显影不干净的残胶，保障蒸镀金属的结合力，让刻蚀更加顺畅。或者在匀胶前对衬底改性，使旋涂的胶更加均匀
可选择功率三档，低档功率范围：
等离子清洗机的工作原理主要基于等离子体的物理和化学作用。在真空腔体中，通过射频电源产生高能量的等离子体，这些等离子体带有正负电荷，形成电场和磁场。等离子体与物体表面碰撞，将污染物撞击脱离表面，达到清洁的目的。同时，等离子体与物体表面发生化学反应，生成挥发性物质，进一步处理污染物.
较低的功率确保快速高效的基片表面处理，同时可以有效实现对基底材料的保护。图为硅片改性前后亲疏水性的对比。
改性前
改性后
不接受大于6英寸样品。不接受厚胶清洗去胶
有辉光电离辐射，需要操作规范。
检查腔门是否关闭严紧，可能会有松动
