| 型号： | Eitre 6 |
|---|---|
| 功能： | 用于实现微纳图形结构制备，可以使用热压印、UV压印以及热和UV同时压印（STU TM）。 |
| 工程师： | 徐老师 / (021) 34206126-6030 |
| 设备地点： | 西区光刻I区 |
| 设备编号： | WPHNILE01 |
用于实现微纳图形结构的制备，可以使用热压印、UV压印以及热和UV同时压印（STU ™）。具有成熟的IPS软模板转印工艺及技术，可使用镍、硅、石英等模板，适用于各种不同的衬底材料，包括Si、石英、GaAs、聚合物薄片等。可实现最小压印尺寸≤20nm，最大压力：80bar。可用于制备纳米光子晶体、亚波长光栅结构、太阳能电池、有机发光二极管（OLED）以及生物微沟道等。
纳米压印技术通过模具和压印胶的直接接触将纳米尺寸的图形转移到涂有压印胶的晶圆上，使用紫外光或者高温将压印胶固化后进行脱模。Eitre-6纳米压印机采用气体软压技术，有力保证了压印的均匀性与一致性，减少碎片的发生。中间聚合物（IPS）转印可以最大程度保护原始模具，延长模具使用寿命。设备及压印流程如下图所示：
纳米压印可用于制备纳米光子晶体、亚波长光栅结构、太阳能电池、有机发光二极管（OLED）以及生物微沟道等:
(以上SEM照片均来源于Obducat公司纳米压印成果展示，作为本纳米压印设备的应用举例)
1.母模需做抗黏处理。
2.晶圆样品大小≤6-inch，样品厚度≤2mm。
3.样品表面必须保持干净，颗粒污染物会严重影响压印效果。
母模抗黏可以采用有机化学气相沉积系统（MVD）制备。
