| 型号： | Ion Wave 10 |
|---|---|
| 功能： | 1. 可干法去除正性及负性（SU8）光刻胶； 2. 可干法去除聚酰亚胺（PI）光刻胶； 3. 可干法去除有机物； 4. 基片表面等离子改性（02\Ar）； 5.表面清洗、表面活化、表面刻蚀与改性。 |
| 工程师： | 张老师 / (021) 34206126-6029 |
| 设备地点： | 西区薄膜II区 |
| 设备编号： | WF2PION01 |
PVA TePla IoN Wave 10是一种先进的等离子体处理设备，主要用于半导体、光电子和精密制造领域的表面清洗、表面活化和改性工艺。该设备利用离子波技术实现材料表面性能的优化，例如提升粘接强度、去除微污染和增强涂层附着力，广泛适用于晶圆制造、微电子封装以及医疗器械加工等高精密领域。
1. 可干法去除正性及负性（SU8）光刻胶；
2. 可干法去除聚酰亚胺（PI）光刻胶；
3. 可干法去除有机物；
4. 基片表面等离子改性（02\Ar）；
5.拥有O2、Ar、CF4、Ar/H2多种气体；
6.表面清洗、表面活化、表面刻蚀与改性。
Ion Wave 10通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术生成高能等离子体，清洁和活化材料表面。高能离子轰击去除污染物，增强表面能，以促进后续键合过程的可靠性和强度。
去胶后样品SEM图
样品尺寸小于8英寸
全天即可，使用完请保持机台干净整洁
设置工艺功率太低
