| 型号： | Explorer-14 |
|---|---|
| 功能： | 1. 蒸发沉积各类常规金属薄膜； 2. 蒸发沉积镍等磁性薄膜； 3. 可实现+/-45度的斜角蒸发。 |
| 工程师： | 付老师 / (021) 34206126-6010 |
| 设备地点： | 西区薄膜IA区 |
| 设备编号： | WF1DEGN01 |
主要用于蒸镀金、银、铝、铜、铬、钛、镍等金属薄膜，用于剥离工艺制备电极，可以满足45°角以内的倾斜蒸镀薄膜的需求。
设备有在线监控沉积厚度的功能，满足沉积1nm-5um 沉积膜厚的需求。可沉积金、银、铝、铜、铬、钛、镍等多种金属薄膜，工件台温度25℃-200℃可控。
6英寸薄膜均匀性在±3%以内，制备膜厚的重复性波动误差在±2%以内。蒸镀金、银、铜、铝、钛、铬、镍的速率满足大于2A/S。
灯丝发射的热电子经阴极与阳极间的高压电场加速并聚焦，由磁场使之偏转到达坩埚待蒸发材料表面，轰击材料引起晶格振动，释放热量，直至材料熔化或升华，将材料蒸发沉积。
声表面波器件的叉指电极。在已经完成光刻显影后的衬底上，蒸镀1um厚的铜电极作为引线，完成剥离厚呈现的图形。
不接受铂金厚膜（100nm以上）、尺寸大于6英寸的样品，不接受在微小颗粒（毫米级以下）样品上镀膜。不接受钼、钨等高熔点、高污染金属镀膜。不接受蒸镀氧化物膜。不接受磁性材料（Fe\Ni）厚膜（大于200nm）。
操作注意高压危险，开腔前一定关闭电源。
可能是金属覆盖较好，有机溶剂无法浸入溶解光刻胶，可以尝试边缘贴胶带，留出空间
一般不会超过60摄氏度
将程序中的功率改小，降低束流
原则上不可以，因为电子转移困难
