| 型号： | Mini RCA |
|---|---|
| 功能： | 设备配备SPM, SC1,SC2, HF，QDR等槽体， 包含一套大槽体（ 可以加工4英寸硅片）和一套小槽体（可以加工3英寸硅片）， 可以用于标准的RCA清洗工艺， 也可以单独使用其中一个槽体进行微纳加工清洗工艺。 |
| 工程师： | 李老师 / (021) 34206126-6015 |
| 设备地点： | 西区无机湿法I区(金属严控) |
| 设备编号： | WW1KRCA01 |
该设备可以用于标准的RCA清洗工艺， 也可以单独使用其中一个槽体进行微纳加工清洗工艺， 是微纳加工必备的清洗设备。
该设备可以用于标准的RCA清洗工艺， 可以通过SPM槽清洗去除样品的光刻胶以及有机污染物，可以通过SC1槽去除颗粒污染，通过SC2槽工艺去除金属离子污染，通过HF槽可以去除样品的氧化硅薄膜。
可以适用于4英寸以及3英寸整片工艺，每槽可以容纳6~7片样品， SPM 槽， SC1和SC2槽均具备加热功能，可以实现室温~140度以内的温度控制， 同时SC1槽具备超声功能，可以更加有效的去除样品的表面颗粒
配备可加热的石英槽体，配合SPM, SC1,SC2溶液，实现样品的RCA标准清洗工艺
可适用于广泛的微纳加工样品的前清洗工艺，为后道其他工艺提供干净的表面形态。
4寸及以下基片RCA清洗（需使用槽体时预约此设备,自己配液预约烧杯）
不可以，需要提前预约，由工程师操作设备
