| 型号： | Nanoquest I-XL |
|---|---|
| 功能： | 溅射沉积高质量光学薄膜、介质薄膜 |
| 工程师： | 付老师 / (021) 34206126-6010 |
| 设备地点： | 东区薄膜Ⅳ区 |
| 设备编号： | EFM4IBS01 |
在常温和加热两种条件下沉积高质量光学薄膜、介质薄膜，如SiO2、Al2O3、Ta2O5、MgF2等
1.沉积二氧化硅膜厚的均匀性优于±3%@6英寸衬底；
2.沉积三氧化二铝膜厚的均匀性优于±2%@6英寸衬底；
3.支持6英寸以下的样品加工，厚度不要超过2mm
离子束溅射(IBSD)，是一种薄膜沉积工艺，使用离子源，将靶材（金属或电介质）沉积或溅射到基片上，以形成金属或电介质膜。因为离子束是等能的（离子具有相等的能量），且高度准直，所以与其他PVD（物理气相沉积）技术相比，其能够精确地控制厚度，并沉积非常致密的高质量薄膜。
一定周期的多层二氧化硅和五氧化二钽交替薄膜，满足对特定波长光的增透
1.样品不能带有光刻胶
2.样品厚度不超过2mm
溅射出来的原子能量太高，会引起光刻胶变性，不易剥离。
离子束溅射工作气压更低、离子束能量能高，沉积的光学薄膜更致密。
