| 型号： | EasyTube® 3000 |
|---|---|
| 功能： | 热壁管式CVD纳米材料生长，可用于碳纳米管和石墨烯薄膜研究和生产。 |
| 工程师： | 徐老师 / (021) 34206126-6030 |
| 设备地点： | 东区封装II区 |
| 设备编号： | EPK2CGD01 |
碳纳米管和石墨烯薄膜的CVD生长；适用于各种形状样品， 包括片状， 卷 状， 三维立体多孔材料等等；可实现低压和常压工艺。
电阻丝加热炉， 三个独立控温温区， 加热炉控制和反应腔内控温， 双 控温模式； 最高温度1100度， 中心恒温区温度均匀性好于±0.5度
4寸以下样品。最高温度1100度
在高温下，碳源气体（如甲烷）分解，碳原子在金属催化剂（如镍、铜）表面沉积并自组装成碳纳米管（催化剂颗粒引导）或石墨烯（表面催化成膜）。
铜箔上生长单层石墨烯（来自CVD Corporation）
请提前沟通，保证催化有效性。
可以
