| 型号： | 定制 |
|---|---|
| 功能： | 该设备配置2套不同尺寸的槽体，可以用于8~6寸以及4~3寸两种类型的晶圆的硅湿法刻蚀工艺， 槽体最多可以进行5片硅片的工艺处理， 可以通过KOH槽以及KI槽溶液进行硅湿法刻蚀以及金刻蚀清洗的各个工艺步骤。 |
| 工程师： | 李老师 / (021) 34206126-6015 |
| 设备地点： | 东区无机湿法IVA区 |
| 设备编号： | EIM4NSE01 |
该设备主要用8~6寸以及4~3寸两种类型的的样品，配备2套不同尺寸类型的槽体（每槽单次最多5片）， 通过KOH试剂湿法腐蚀硅，可以实现各向异性的目的，形成倒金字塔样式的图形
可以最大处理5片8寸以下样品，温度范围20~100可调节，设腐蚀厚度和速率可以通过温度以及化学试剂浓度自由设定。
设备控温+/-5度， 升温速率 2C/min, 工艺时长通过PLC可以自由设定，时间到设备会发出报警。
此为硅刻蚀设备
需要工艺工程师操作槽体
