非CMOS级去金属RCA清洗台运行
Non-CMOS Metal RCA Cleaning Station
型号: 定制
功能: 该设备配置2套不同尺寸的槽体,可以用于8~6寸以及4~3寸两种类型的晶圆的金属湿法刻蚀工艺, 槽体最多可以进行5片硅片的工艺处理, 可以通过SC2槽以及DHF槽溶液进行金属湿法刻蚀清洗的各个工艺步骤。
工程师: 李老师 / (021) 34206126-6015
设备地点: 东区无机湿法IVA区
设备编号: EIM4NMR01
  • 设备基本信息
  • 设备工作原理
主要用途

该设备主要用8~6寸以及4~3寸两种类型的的样品,配备2套不同尺寸类型的槽体(每槽单次最多5片),SC2槽以及DHF槽溶液进行金属湿法刻蚀清洗的各个工艺步骤。

 

工艺/测试能力

可以最大处理5片8寸以下样品,设备的SC2槽具备加热功能, 可自由设定试剂的加热温度。用于去除样品上的金属层。

 

技术指标

槽体控温精度+/-5度, 升温速率2C/Min, 样品尺寸8~6寸使用8寸槽体, 4~3寸样品使用4寸槽体。

 

通过对槽体加热,超声等功能,实现对样品的清洗

金属薄膜样品可以在此区域设备进行工艺

下方列表为常见问题及解答(点击问题栏,即可展开相应解答内容),若您的问题不在列表里,您也可以点击填写留言链接进行留言:
常见问题及解答
  • 01
    此设备可以用户独立操作吗?

    需要工艺人员操作

留言咨询
如果您所要咨询的问题不在以上列表里,您可以发送邮件至[email protected]或点击下方按钮进行咨询。
×