| 型号： | SWC-4000 |
|---|---|
| 功能： | 用于4寸，6寸以及8寸标准晶圆硅片的清洗后甩干，烘干，也可以用于独立的兆声清洗以及甩干工艺。 |
| 工程师： | 李老师 / (021) 34206126-6015 |
| 设备地点： | 东区无机湿法IVB区 |
| 设备编号： | EIM4WCR01 |
是湿法清洗的辅助设备，可用于4寸，6寸以及8寸标准晶圆硅片的清洗后甩干，烘干，也可以用于独立的兆声清洗以及甩干工艺。
去离子水冲洗样品表面，氮气吹干样品， 兆声清洗功能可以加强去颗粒效果。
基片尺寸：4,6,8寸标准晶圆整片。
采用独立式兆声清洗，化学试剂清洗,PVA刷子清洗以及旋转甩干工艺。
样品须为，4,6,8寸整片晶圆片，碎片不可以加工。
