氮化硅窗格
该氮化硅自由膜的制备全程在净化间完成，先在硅表面用低应力LPCVD炉管氮化硅沉积一定厚度的氮化硅薄膜，再在硅片背面用湿法工艺刻蚀硅，直到窗口部分的硅被刻蚀干净。该氮化硅膜窗口可广泛应用于TEM透镜，红外线、紫外线光谱研究，以及生物医学等领域。
氮化硅自由膜的应用
- TEM样品支撑；
- X 射线的观察窗口；
- 惰性耐高温衬底，可用于原位样品加工及后续观测；
- 可以作为真空隔离腔室；
- 纳米孔DNA测序。
氮化硅自由膜的特点
- 化学稳定性高；
- 机械强度高；
- 对X射线有很好的穿透性；
- 能够承受1000℃高温；
- 表面平整度高（粗糙度小于1nm）；
- 等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。
AEMD现有样品
沉积方法： 低应力LPCVD炉管
氮化硅薄膜厚度： 100nm.
自由膜应力水平：<100MP(抗拉)，
折射率：2.2+/-0.05
窗口尺寸： 52*52um
外框厚度：200um
外宽尺寸：2.5*2.5mm
AEMD可提供定制
- 氮化硅膜窗口可以基于（100）(110)(111)等不同晶向的衬底进行加工。
- 用户可以基于不同衬底厚度(200um~600um)， 不同氮化硅膜厚度（20nm~200nm），以及不同窗口尺寸（30*30um，50*50um，100*100um等）提出定制需求。
- 包含低应力的氮化硅TEM 窗格可以基于FIB提供自由膜打孔工艺，可以提供直径50纳米及以上的孔径。
- 其他，请咨询工艺工程师。
