关于AEMD平台校园推广兼用户交流会的通知

各位老师、同学，大家好，   为了更好地服务于学校科研工作，充分利用大型仪器设备，促进相关研究的深入发展，先进电子材料与器件平台（AEMD）作为学校唯一开放性的微纳结构加工大型平台将于10月下旬在校内举行AEMD平台介绍及用户交流大会。届时将会详细介绍平台的加工能力、设备情况及一些典型工艺和器件研发应用的邀请学术报告。欢迎各位老师及同学踊跃报名参加。   会议名称：先进电子材料与器件校级平台（简称AEMD）校内推广兼用户交流会 会议时间：2016年10月25日上午9:30 会议地点：闵行校区微电子大楼105室 会议主要内容如下：

1. 平台简介及设备、工艺介绍
2. 特邀用户报告：报告题目: A photoconductor intrinsically has no gain

        报告人：上海交通大学密西根学院 但亚平 特别研究员

3. 特邀用户报告：报告题目：金刚石涂层在微细加工刀具表面的应用

        报告人：上海交通大学机械与动力工程学院 沈彬 副研究员

4. 相关问题解答
5. 平台参观

  请在以下链接中进行活动注册： https://www.wenjuan.com/s/ymeiIfl/

AEMD校级平台简介

  先进电子材料与器件校级平台（AEMD）创建于2012年，于2014年11月6日起正式对外运行，是为全校科研工作提供服务的大型仪器设备校级共享平台，具备10nm至微米级微纳器件与图形的加工与测试能。 AEMD平台分别座落于交大闵行校区微电子大楼一层（西区）以及综合实验楼一层（东区），实验室共有近1510m²的100级、1000级净化室，其中100级210 m²，1000级约1300m²。除此之外，平台还拥有近250m²非净化测试加工区。平台建设有一条能对硅、玻璃和有机材料进行微纳米加工的3～6英寸半导体级实验线（西区实验室）以及一条3～4英寸非硅/MEMS微纳加工实验线（东区实验室），部分设备可实现8英寸基片加工。AEMD拥有电子束曝光系统、双束聚焦离子束系统、双面对准紫外光刻机、热压/紫外纳米压印系统、涂胶显影系统、微波去胶机、氧化扩散炉、多晶硅/氮化硅LPCVD炉、快速热处理设备、湿法清洗刻蚀台、多靶磁控溅射系统、超高真空磁控溅射系统、电子束蒸发设备、离子束溅射机、离子束刻蚀机、等离子增强化学气相沉积设备、金属反应离子刻蚀设备、介质反应离子刻蚀设备、深硅刻蚀系统、场发射扫描电镜、原子力显微镜、半导体参数测试仪、霍尔效应仪、四探针测试仪、表面轮廓仪、紫外膜厚仪等先进的微纳加工与测试设备，为高水平的科研和高层次的人才培养提供了良好的实验平台。详细信息请参见https://aemd.sjtu.edu.cn/。