AEMD平台充分发挥交大人“求真务实、努力拼搏、敢为人先、与日俱进”的精神，不断产出国内外基础性、前瞻性、特色性的原创成果，努力建设成为能够实现重大突破的开放性科研平台，为加快实现我国高水平科技自立自强贡献更大的力量。平台员工累积申请及授权发明专利14余项，先后应邀在微纳制造领域会议发表大会主题报告及特邀报告20余次，在微纳加工领域的基础研究及应用开发方面取得了突出的研究成果，受到了国内外同行的广泛关注，AEMD平台已初步发展成为该领域具有领先优势的关键元器件制造技术研究与开发的平台。
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专利名称 |
授权日期 |
专利号 |
专利第一所有人 |
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一种精细微纳米玻璃结构的加工方法 |
2024.07.17 |
CN113788452B |
权雪玲 |
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基于循环刻蚀工艺的石英微透镜制备方法及石英微透镜 |
2024.03.15 |
CN115343788B |
刘丹 |
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一种高性能氧化铪基铁电电容器及其制备方法 |
2024.02.27 |
CN116845056B |
乌李瑛 |
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电子束蒸镀铝膜用坩埚及其使用方法 |
2023.10.31 |
CN115449759B |
付学成 |
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提高FIB刻蚀超浅光栅结构侧壁垂直度的方法及系统 |
2023.06.06 |
CN114924341B |
瞿敏妮 |
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氮化硅波导辅助悬臂梁端面耦合器 |
2023.03.28 |
CN114594548B |
程秀兰 |
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基于反向二元闪耀光栅的滤波器及制造方法 |
2023.02.17 |
CN114859467B |
程秀兰 |
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一种用椭圆偏振光谱仪无损检测金属衬底氧化变性的方法 |
2022.11.15 |
CN113466141B |
瞿敏妮 |
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用于电子束光刻套刻的通用对准标记及其制造方法 |
2022.06.28 |
CN113093486B |
权雪玲 |
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一种常温NTC热敏电阻薄膜及其制备方法 |
2022.03.01 |
CN111613400B |
付学成 |
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用电子束光刻实现加工硅纳米圆柱的方法 |
2020.09.15 |
CN110244520B |
程秀兰 |
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一种减少电子束蒸发过程物料飞溅的坩埚及其制造方法 |
2020.07.14 |
CN109881158B |
付学成 |
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一种提高靶材使用率的磁控溅射圆形平面靶枪的磁靶 |
2020.07.14 |
CN110106487B |
付学成 |
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一种拉曼光谱检测基底的制备方法 |
2020.07.10 |
CN108896530B |
程秀兰 |
