尊敬的各位用户老师、同学：
为进一步提升平台服务能力，完善金属薄膜沉积工艺，AEMD东区等离子辅助原子层沉积系统（金属）（设备编号：EFM4ALD01）已新增NbN薄膜沉积工艺，现正式开放预约。新增工艺的具体情况如下：
1. 新增工艺简介
NbN（氮化铌）薄膜是半导体先进互连、电极及MEMS器件制造中关键的导电材料，具有良好的导电性能、高硬度、优异的扩散阻挡特性及良好的化学稳定性。本次新增的工艺可沉积连续、保形的氮化铌薄膜，尤其适用于TSV、沟槽结构及对薄膜均匀性有严苛要求的先进工艺开发。
2. 工艺能力
3. 应用领域
4. 设备信息
设备名称：等离子辅助原子层沉积系统（金属）
设备编号：EFM4ALD01
设备位置：东区薄膜Ⅳ区
预约流程：用户可通过AEMD平台预约系统进行工艺预约申请。用户在预约NbN工艺前，请提前与工程师沟通基底可以承受的温度。
5. 使用须知
用户在预约该工艺时，请明确所需修平的目标厚度及相关工艺要求，并确保所提交信息与实际样品情况一致。
如有技术问题或工艺咨询，请联系工艺工程师：乌老师；电话：021-34206126-6028；邮箱：[email protected]
设备详细介绍查看链接：AEMD官网—平台设备—微纳加工—薄膜沉积—等离子辅助原子层沉积系统（金属）
AEMD官网网址：https://aemd.sjtu.edu.cn/
AEMD实验室设备预约管理系统访问网址：https://aemd-lims.sjtu.edu.cn/
感谢您对AEMD平台的关注！
先进电子材料与器件（AEMD）平台
2026年5月12日
