测量显微镜

测量显微镜运行

Measuring microscope

主要用途

主要用于微纳加工样品的结构观察及测量，也可以适用于超出视场范围大样品测量。

工艺/测试能力

验收标准L=100mm，L=1mm量测结果L=99.9988mm，L=0.9991mm

验收标准 L=1.38mm量测结果 L=1.3806mm

验收标准H=131.7nm（by SEM）量测结果H=0.1297mm

技术指标

验收标准L=100mm，L=1mm量测结果L=99.9988mm，L=0.9991mm；

验收标准 L=1.38mm量测结果 L=1.3806mm

验收标准H=131.7nm（by SEM）量测结果H=0.1297mm

测量显微镜采用主动反射、共聚焦方法的自动聚焦系统。

1.对于开口宽度为40μm、深度超过120μm（深宽比>3）的深硅刻蚀槽样品，深度测量误差≤5μm；验收标准H=131.7nm（by SEM）量测结果H=0.1297mm；

2.对于标准样品，Z轴测量精度≤5μm+3%*L，L为测量长度；验收标准 L=1.38mm量测结果 L=1.3805mm；

3.对于标准样品，平面测量精度≤3μm+2%*L，L为测量长度；验收标准L=100mm，L=1mm量测结果L=99.9988mm，L=0.9991mm；

主要用于微纳加工样品的结构观察及测量。

1. 样品＜6inch，样品背面干净，使用完请将亮度调到最低。
2. 使用完后关闭软件。
3. 设备在运行过程中，请勿触碰设备以及操作电脑以免误碰引起设备停机或故障。
4. 如果发生设备报警，请通知相应的设备工程师。

下方列表为常见问题及解答(点击问题栏，即可展开相应解答内容)，若您的问题不在列表里，您也可以点击填写留言链接进行留言:

常见问题及解答

留言咨询

如果您所要咨询的问题不在以上列表里，您可以发送邮件至[email protected]或点击下方按钮进行咨询。