| 型号： | ULTRA PLUS |
|---|---|
| 功能： | 高分辨微观形貌观察及微区成分分析 |
| 工程师： | 王老师 / 34207734-8006 |
| 设备地点： | 西区测试II区 |
| 设备编号： | WT2ZSEM01 |
主要用于微纳米材料及结构的超高分辨微观形貌观察，同时可结合EDS能谱仪对材料或结构表面及截面进行微区成分分析等。
场发射扫描电子显微镜因其分辨率高、景深大、图像更富立体感、放大倍数可调范围宽等优点而被广泛应用于半导体、无机非金属材料及器件等的检测。能做各种固态样品表面形貌的二次电子像、背散射电子象观察及图像处理。结合能谱仪，能同时进行样品表层的微区点线面元素的定性、半定量及定量分析，具有形貌、化学组分综合分析能力。
场发射扫描电子显微镜利用场发射电子源产生高能电子束，并通过透镜系统将电子聚焦到样品表面上。当电子束撞击样品时，会产生反射、散射和二次电子等信号，这些信号被收集并转换成图像，从而实现对样品表面微观结构的观察和分析。配有能谱仪，可以同时进行显微形貌观察和微区成分分析。
扫描电镜照片
EDS分析
【请至少提前15分钟至实验室准备样品】禁止磁性及粉末样品，样品保持洁净，禁止用手直接触摸。晶圆样品大小不超过6inch。
样品要求：
1. 样品为干燥无水固体，无易挥发溶剂
2. 无磁性
3. 多孔材料需提前预抽真空自主操作开放时间：每天中午11:30-13:30；下午17:00-22:00
EDS有点测、线扫描、面扫描模式。
A. 点测是在样品上选择一个微小的区域进行分析测量，获得包括元素种类及相对含量等信息。
B. 线扫是沿着一条线进行连续测量，得到这条线上成分变化情况。
C. 面扫是在样品表面选择一个面进行扫描，获取整个区域的元素分布信息。
A. 对于硅片、玻璃片等可采用划片进行切割，露出需要观测的位置；
B. 样品垂直贴于样品台上，观测面朝上。
A. 要确保分析的位置被暴露出来；
B. 样品表面导电性良好，如导电性不好可采用喷金或喷碳增加导电性；
C.样品无易挥发物质；
D.不易被电子束损伤。
