单片显影机运行
developer
型号: developer
功能: 6英寸及以下基片喷射式显影
工程师: 王老师 / (021) 34206126-6005
设备地点: 西区光刻I区
设备编号: WPHLEDC01
  • 设备基本信息
  • 设备工作原理
主要用途

将曝光后的硅片放入显影机中,使用显影液处理以去除特定区域的光阻。

 

工艺/测试能力

6英寸及以下基片喷射式显影

 

技术指标
  • 转动速度:0-12,000rpm
  • 马达旋涂转速:稳定性能误差 < ±1%;

显影是将曝光后的硅片放入显影机中,使用显影液处理,以去除曝光或未曝光的光阻

 

支持 2”~6”标准晶圆,以及大于10mm x 10mm 的碎片

支持 2”~6”标准晶圆,以及大于10mm x 10mm 的碎片

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常见问题及解答
  • 01
    使用中有真空吸附不住片子的情况

    请及时清理载片台和片子背面

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