| 型号： | 303DU hotplate |
|---|---|
| 功能： | 光刻胶烘烤 |
| 工程师： | 王老师、张老师 / (021) 34206126-6005/6029 |
| 设备地点： | 东区光刻ⅢA区、西区光刻I区 |
| 设备编号： | ELT3PHP01、ELT3PHP02、ELT3PHP03、ELT3PHP04、WPHDHTP01、EPHSHTP01、EODBHTP01 |
光刻胶烘烤
光刻胶烘烤
温度范围：常温-250度，温度精度：≤±1%
半导体标准硅片或玻璃片，样品大小≤ 8"
使用前应检查设备状态，并注意放样品，以免被前一用户使用未完全冷却的加热板烫伤 。样品边缘及背面的光刻胶必须清理干净后方可放热板上进行加热，以免未清理的光刻胶污染热板。严禁使用金属等硬质材料剐蹭热板表面涂层。热板使用完毕后及时关机。
请重启设备
