| 型号： | HMDS Oven |
|---|---|
| 功能： | HMDS 在晶圆表面形成一层疏水涂层，去除水分，增强光刻胶与基底（如硅、玻璃等）的附着力 |
| 工程师： | 张老师、王老师 / (021) 34206126-6029/6005 |
| 设备地点： | 东区光刻ⅢA区、西区光刻I区 |
| 设备编号： | EDD2HMD01、WPHYOVH02 |
HMDS烘箱（六甲基二硅氮烷烘箱）主要用于半导体制造和微电子工业中的光刻工艺。其主要用途是对硅片表面进行预处理，通过加热硅片并使其与HMDS蒸汽接触，增强光刻胶与硅片表面的附着力。这一步骤对于确保光刻图案的精确性和稳定性至关重要，从而提升半导体器件的质量和性能。此外，HMDS烘箱还可用于其他需要增强材料表面附着力的工艺过程中。
在达到设定温度后，HMDS（六甲基二硅氮烷）液体被加热蒸发，形成蒸汽并通入烘箱内部。硅片在高温环境下与HMDS蒸汽接触，发生化学反应，在表面形成一层疏水性的硅烷化膜。这层硅烷化膜能够显著提高光刻胶与硅片表面的附着力，减少光刻过程中胶层的剥离或缺陷，确保光刻图案的精确性。
1、样品需提前与工艺老师确认。
2、样品正面与背面均需要保持平整洁净。
全天即可，样品需提前与工艺老师确认，样品正面与背面均需要保持平整洁净，使用完请保持机台干净整洁。
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