| 型号： | SMD-200 |
|---|---|
| 功能： | 主要用于光刻工艺中的显影过程，通过喷雾显影技术确保均匀显影，适用于高精度微电子和半导体制造。 |
| 工程师： | 张老师 / (021) 34206126-6029 |
| 设备地点： | 东区光刻ⅢA区 |
| 设备编号： | EDD2SMD01 |
Sawatec SMD-200 采用喷雾显影（Spray Development）技术，通过精确控制显影液喷雾，均匀覆盖光刻胶表面，使未曝光或曝光部分的光刻胶溶解去除。设备结合旋转控制和液体流量调节，确保显影均匀性，提高微电子和半导体制造的工艺精度。
1、样品需提前与工艺老师确认。
2、样品正面与背面均需要保持平整洁净。
全天即可，样品需提前与工艺老师确认，样品正面与背面均需要保持平整洁净，使用完请保持机台干净整洁。
需将旋钮拧下来对应不同尺寸大小重新拧上即可
