| 型号： | STM7 |
|---|---|
| 功能： | 主要用于微纳加工样品的结构观察及测量 |
| 工程师： | 沈老师 / 34207734-8010 / shenyunliang@1 |
| 设备地点： | 东区薄膜Ⅳ区 |
| 设备编号： | EFM4STM01 |
主要用于微纳加工样品的结构观察及测量，也可以适用于超出视场范围大样品测量。
对于标准样品，平面测量精度≤3μm+2%*L，L为测量长度；验收标准L=100mm，L=1mm量测结果L=99.9988mm，L=0.9991mm；
对于标准样品，Z轴测量精度≤5μm+3%*L，L为测量长度；验收标准 L=1.38mm量测结果 L=1.3806mm；
对于开口宽度为50μm、深度超过120μm的深硅刻蚀槽样品，深度测量误差≤5μm；
测量显微镜采用主动反射、共聚焦方法的自动聚焦系统。
图1. 主动反射，共聚焦自动聚焦系统光路
1.对于开口宽度为50μm、深度超过120μm的深硅刻蚀槽样品，深度测量误差≤5μm；
主要用于微纳加工样品的结构观察及测量
样品＜8inch，样品背面干净，使用完请将亮度调到最低；使用完后关闭软件；设备在运行过程中，请勿触碰设备以及操作电脑以免误碰引起设备停机或故障；如果发生设备报警，请通知相应的设备工程师。
测量显微镜可以测量超出视场范围大样品尺寸。
