8″ 晶圆金相显微镜

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8″ 晶圆金相显微镜运行

8 inch wafer metallographic microscope

主要用途

基片表面光学观察

技术指标

反射光模式，物镜放大倍数包括：5X、10X、20X、50X、100X

光学显微镜的基本原理是通过两组透镜（物镜和目镜）的组合来实现对微小物体的放大和成像。物镜‌负责将物体放大并形成倒立的实像，而‌目镜‌则进一步放大这个实像，形成正立的虚像，最终供观察者使用。

100x物镜下，标尺物理长度为100um，软件实际测量为99.62um。

样品尺寸兼容8英寸以下及破片，不接受带污染的样品。

样品尺寸兼容8英寸以下及破片，不接受带污染的样品；样品背面干净，使用完请将亮度调到最低；设备在运行过程中，请勿触碰设备以及操作电脑以免误碰引起设备停机或故障；如果发生设备报警，请通知相应的设备工程师。

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