2025-04-18

尊敬的各位用户老师、同学:

为了满足校内外用户的科研需求,AEMD平台新购置的深紫外步进光刻机(设备编号:ELT2DUV01)已完成设备安装及工艺调试,并已开放运行;平台决定在该设备运行初期,实行优惠推广价格,即实行最新收费标准的三五折。欢迎广大用户师生前来咨询使用!

 

深紫外步进光刻机设备介绍:

主要用途:

0.18 um工艺节点光刻

 

设备工作原理简介:

DUV stepper采用248nm准分子激光作为光源,工艺节点在180nm水平,采用了步进扫描投影式光刻,光源通过掩模,经光学镜头调整和补偿后,以步进重复的方式在硅片上实现曝光,精度高且曝光速度极快。

 

工艺能力:

  1. WPH:120~130片wafer
  2. 曝光光源: 248nm KrF
  3. 加工晶圆尺寸: 6/8 inch(其他尺寸请联系工艺老师确认)
  4. 最大曝光面积: 22 mm × 22 mm
  5. 极限分辨率: ≤150 nm
  6. 对准精度SMO: 3σ≤ 25 nm
  7. 镜头缩放比例: 5:1

 

详情请咨询:

工艺工程师

姓名:徐老师;邮箱:[email protected];电话:021- 34206126-6018

工艺集成工程师

姓名:权老师;邮箱:[email protected];电话:021- 34207734-8018

 

请注意:预约系统当前显示的价格,即为该设备三五折优惠后的价格;优惠结束日期另行通知。

设备详细介绍查看链接: AEMD官网-平台设备-光刻图形化设备-深紫外步进光刻机

AEMD官网网址:https://aemd.sjtu.edu.cn/

AEMD实验室设备预约管理系统访问网址:https://aemd-lims.sjtu.edu.cn/

感谢您对平台的关注!

 

先进电子材料与器件(AEMD)平台

2025年4月18日

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