关于AEMD平台氮化硅自由膜（silicon nitride membrane）窗格工艺开放的通告

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2019-07-02

关于AEMD平台氮化硅自由膜（silicon nitride membrane）窗格工艺开放的通告

尊敬的各位用户老师、同学： AEMD平台现已完成高质量的氮化硅膜窗格（silicon nitride membrane）的工艺开发。该氮化硅自由膜的制备全程在净化间完成，先在硅表面用低应力LPCVD炉管氮化硅沉积一定厚度的氮化硅薄膜，再在硅片背面用湿法工艺刻蚀硅，直到窗口部分的硅被刻蚀干净。该氮化硅膜窗格可广泛应用于TEM透镜，红外线、紫外线光谱研究，以及生物医学等领域。 氮化硅自由膜的应用：

TEM样品支撑；
X 射线的观察窗口；
惰性耐高温衬底，可用于原位样品加工及后续观测；
可以作为真空隔离腔室；
纳米孔DNA测序。

氮化硅自由膜的特点：

化学稳定性高；
机械强度高；
对X射线有很好的穿透性；
能够承受1000℃高温；
表面平整度高（粗糙度小于1nm）；
等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。

AEMD现有样品：

沉积方法：低应力LPCVD炉管

氮化硅薄膜厚度： 100nm.

自由膜应力水平：<100MP(抗拉)，

折射率：2.2+/-0.05

窗口尺寸： 52*52um

外框厚度：200um

外宽尺寸：2.5*2.5mm

AEMD可提供定制：

氮化硅膜窗口可以基于（100）(110)(111)等不同晶向的衬底进行加工。
用户可以基于不同衬底厚度(200um~600um)，不同氮化硅膜厚度（20nm~200nm），以及不同窗口尺寸（30*30um，50*50um，100*100um等）提出定制需求。
包含低应力的氮化硅TEM 窗格可以基于FIB提供自由膜打孔工艺，可以提供直径50纳米及以上的孔径。
其他，请咨询工艺工程师。

工艺工程师： 姓名：李进喜；邮箱：[email protected]；电话：021-34207734-8016

先进电子材料与器件校级平台

二零一九年七月二日

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