氧化炉

扩散掺杂:  6”及以下硅晶圆的硼扩散或磷扩散(包括预沉积和推进)

 

离子注入 8”及以下基片的BPAsSiGeInAr的离子注入掺杂(可批量加工),以及后续掺杂剂的高温激活

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