型号：Xactix® e1
功能：XeF₂（二氟化氙）刻蚀硅是一种基于气相化学反应的干法刻蚀技术，具有高选择性、温和刻蚀条件，对金属及二氧化硅、氮化硅选择比高的特点。
型号：ION wave10
功能：1. 干法刻蚀后光刻胶灰化（去胶）； 2. 基片表面等离子改性；3. 涂胶前基片清洗，去除有机物。
型号：Ion Wave 10
功能：1. 可干法去除正性及负性（SU8）光刻胶；2. 可干法去除聚酰亚胺（PI）光刻胶；3. 可干法去除有机物； 4. 基片表面等离子改性（02\Ar）；5.表面清洗、表面活化、表面刻蚀与改性。
型号：PDC002
功能：1. 基片表面等离子清洗2. 基片表面改性处理（O2或N2）
