型号：MC3-II/GP
功能：八英寸及以下，3-960KeV, 提供B, BF2, P, A,Ar元素的注入
型号：LH2
功能：1.在工艺温度630度左右进行高品质多晶硅沉积（工艺气体为硅烷）； 2；在工艺温度540度左右进行高品质非晶硅沉积
功能：1. 普通高品质氮化硅（Si3N4)薄膜沉积； 2. 高品质低应力氮化硅（Si3N4)薄膜沉积；
型号：AH3
功能：1. 高品质氧化硅的干氧氧化； 2. 超厚氧化硅的湿氧氧化。3. 1100度以下的热退火工艺
功能：磷扩散高温炉管用于磷掺杂工艺
功能：硼扩散高温炉管用于硼掺杂工艺
