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微纳加工
  • 高真空多腔室Al(Sc)N反应溅射系统预约

    型号：AM222-TPPP

    状态：运行

    功能：可实现高质量压电薄膜AlN和AlScN，和金属Mo的沉积，并现实薄膜的超平整修整工艺。

    东区薄膜Ⅳ区(021) 34206126-6028
  • 多靶磁控溅射镀膜系统预约

    型号：M600

    状态：运行

    功能：常温、高温条件下均可沉积高质量、厚度精确可控制的金属单质及氧化物半导体、化合物等多种薄膜。

    东区薄膜Ⅳ区(021) 34206126-6010
  • 多靶磁控溅射(Multi Target Sputter)预约

    型号：Explorer-14

    状态：运行

    功能：用于溅射沉积各类金属薄膜；
    反应溅射沉积多种氧化物、氮化物薄膜；
    具备原位基片清洗功能。

    西区薄膜IA区(021) 34206126-6010
  • 超高真空溅射机预约

    型号：MPS-3000-HC５

    状态：运行

    功能：1. 溅射沉积各类金属薄膜；
    2. 磁性材料溅射需与平台联系确认。

    西区薄膜IB区(021) 34206126-6009
  • 离子束溅射辅助沉积系统预约

    型号：Nanoquest I-XL

    状态：运行

    功能：溅射沉积高质量光学薄膜、介质薄膜

    东区薄膜Ⅳ区(021) 34206126-6010
  • 离子束溅射系统预约

    型号：LDJ2B-F100-100

    状态：运行

    功能：1. 沉积各类金属薄膜；
    2. 磁性材料沉积需与平台联系确认

    西区薄膜IA区(021) 34206126-6009
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